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北崎HORIBA堀場(chǎng)MU-3000多組分氣體混合裝置 根據(jù)生成的氣體成分配備質(zhì)量流量控制器，可以通過簡(jiǎn)單的操作生成混合氣體。 我們的產(chǎn)品陣容涵蓋從 2 種成分到最多 6 種成分的氣體混合物。 控制軟件具有程序操作功能、氣體濃度設(shè)定功能等，是適合各種研究開發(fā)用途的氣體發(fā)生系統(tǒng)。

日本供應(yīng)HORIBA堀場(chǎng)氣體混合裝置MU-2200 混合氣體發(fā)生器：MU系列配備高性能質(zhì)量流量控制器，均勻混合生成兩種或多種氣體。操作面板上采用觸摸屏，通過輸入混合氣體濃度和流量，生成任意濃度的混合氣體。

原裝現(xiàn)貨HORIBA堀場(chǎng)IR-300氣體濃度監(jiān)測(cè)儀 用于鼓泡供應(yīng)管線的在線氣體濃度監(jiān)測(cè)器。用于原料氣體的穩(wěn)定供應(yīng)。 MOCVD（金屬有機(jī)化學(xué)氣相沉積）廣泛應(yīng)用于LED制造工藝和光學(xué)器件制造工藝中。該 MOCVD 設(shè)備采用液體/固體材料，通常使用鼓泡方法將其作為汽化氣體輸送到腔室。

進(jìn)口供應(yīng)HORIBA堀場(chǎng)氣體監(jiān)測(cè)儀IR-400 隨著半導(dǎo)體制造薄膜沉積工藝中微細(xì)加工的進(jìn)步，處理后保持腔室清潔對(duì)于提高生產(chǎn)率變得非常重要。 IR-400系列是用于薄膜沉積工藝的腔室清潔終點(diǎn)檢測(cè)監(jiān)視器，可實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)廢氣成分（SiF4、CF4）。通過優(yōu)化干洗終點(diǎn)檢測(cè)、減少清潔氣體消耗和時(shí)間以及減少室損壞，有助于延長(zhǎng)零件的使用壽命。

原裝供應(yīng)HORIBA堀場(chǎng)隔膜真空表VG-200S 過程壓力測(cè)量是半導(dǎo)體、平板顯示器、光伏板、硬盤、涂料等許多行業(yè)的一項(xiàng)重要技術(shù)。電容式壓力計(jì)利用帶有對(duì)電極的電容來測(cè)量膜片兩側(cè)壓力差引起的位移量，并將其轉(zhuǎn)換為壓力。

日本進(jìn)口HORIBA堀場(chǎng)激光氣體分析儀LG-100 LG-100系列配備了HORIBA專有的紅外氣體分析技術(shù)“IRLAM TM ”（紅外激光吸收調(diào)制），可實(shí)時(shí)測(cè)量半導(dǎo)體制造蝕刻過程中產(chǎn)生的廢氣成分SiF4，并檢測(cè)微量的SiF可以從4中檢測(cè)端點(diǎn)的變化。